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電子車間廢氣處理-杭州

簡要描述:

電子車間廢氣處理-杭州
電子工業(yè)從產(chǎn)品來分的話,自上而下可以分為電子整機(jī)產(chǎn)品和電子基礎(chǔ)產(chǎn)品,還有電子材料等三個部分,其中包含有:光電器件、半導(dǎo)體器件、電子元件及電子終端產(chǎn)品等方面。電子廠廢氣的主要來源是對電子產(chǎn)品的表面涂層工藝環(huán)節(jié)所用溶劑型涂料和清洗工藝環(huán)節(jié)所用有機(jī)溶劑所致。

  • 更新時間:2024-03-29
  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 產(chǎn)品品牌:其他品牌
  • 產(chǎn)品廠地:常州市
  • 訪問次數(shù):1008
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電子車間廢氣處理-杭州

  電子工業(yè)有機(jī)廢氣VOCs的排放,對大氣質(zhì)量、人體健康以及周邊生活環(huán)境的危害都較大,對該類污染物進(jìn)行有效控制和治理問題也愈發(fā)重要。電子工業(yè)從產(chǎn)品產(chǎn)業(yè)鏈劃分,自上而下分為電子整機(jī)產(chǎn)品、電子基礎(chǔ)產(chǎn)品和電子材料三個層次。其中涵蓋:電子材料、半導(dǎo)體器件、電子元件及印制電路板、光電器件和電子終端產(chǎn)品等5個方面。

  電子工業(yè)是VOCs排放的主要行業(yè)之一,電子工業(yè)廢氣VOCs排放種類有30多種,組分復(fù)雜。電子工業(yè)廢氣VOCS主要來源于對電子產(chǎn)品的表面涂層工藝環(huán)節(jié)所用溶劑型涂料和清洗工藝環(huán)節(jié)所用有機(jī)溶劑所致。電子工業(yè)廢氣VOCS常見的種類有:異丙醇、丁酮、甲苯、醋酸丁酯、甲醇、乙醇、丙酮、二甲苯、丙二醇單甲醚、苯乙烯、乙酸乙酯、正丁醇、甲基異丁基甲酮、二氯甲烷、環(huán)已酮、乙苯、正庚烷、甲氫呋喃、三氯乙烯。

  一般來說,廢氣排放中風(fēng)量較大,VOCs濃度較低。半導(dǎo)體工藝過程中有機(jī)廢氣具有排放流量大(通常大于11000m3/h)和濃度低(通常小于25ppmv)的特點(diǎn)。電子工業(yè)廢氣VOCs排放中還含有酸性氣體、堿性氣體和一些有體。

  揮發(fā)性有機(jī)物(VOCs)排放量大、濃度低、成分復(fù)雜,常見有機(jī)廢氣治理方法如:焚燒、吸附、冷凝、生物膜法、低溫等離子、光催化氧化等,單獨(dú)運(yùn)用或無法達(dá)成經(jīng)濟(jì)高效運(yùn)行,或不能滿足嚴(yán)苛的排放標(biāo)準(zhǔn)。

  焚燒法(RTO):能耗大、運(yùn)行成本高,適合處理高濃度、小風(fēng)量有機(jī)廢氣。

  吸附法(活性炭):投資小、工藝簡單,易飽和,必須與脫附、冷凝、焚燒等方法聯(lián)用才能滿足排放要求。

  冷凝法:與吸收、吸附等方法聯(lián)用,將有機(jī)廢氣吸附濃縮后冷凝、分離,回收其中有價值的有機(jī)物。此法適用濃度高、風(fēng)量小的有機(jī)廢氣處理場合。缺點(diǎn)是:投資、能耗、運(yùn)行費(fèi)用高,冷凝回收物提純處理后,仍有相當(dāng)部分液態(tài)廢棄物需要進(jìn)一步處理。該方案與生產(chǎn)設(shè)備、生產(chǎn)工藝存在匹配關(guān)系,偏離這種匹配關(guān)系將提高治理成本,影響治理效果。

  沸石轉(zhuǎn)輪濃縮+焚燒法:沸石轉(zhuǎn)輪濃縮設(shè)備基本依靠進(jìn)口,自主產(chǎn)品尚不成熟。該方案同樣與生產(chǎn)設(shè)備、生產(chǎn)工藝存在匹配關(guān)系。

  低溫等離子、光催化氧化法:揮發(fā)性有機(jī)物處理效率低,只能作為輔助性的治理手段。

高溫等離子焚燒技術(shù)是高頻(30KHz)高壓(100KV)大功率電源在特定條件下的聚能放電,產(chǎn)生3千℃等離子態(tài)高溫氣流。

  有機(jī)廢氣在反應(yīng)器中經(jīng)過壓縮、高壓聚能放電成為高溫等離子體。反應(yīng)器壓力增高,氣體體積急劇膨脹,在高溫、高電勢的雙重作用下,有機(jī)廢氣瞬間(萬分之5秒)成為高溫等離子體,其中長分子鏈裂解成單質(zhì)原子,有機(jī)物清除率大于98%。

  高溫等離子焚燒裝置無需濃縮,便可直接處理低濃度、大風(fēng)量有機(jī)廢氣。每處理1萬立方米/小時有機(jī)廢氣,僅消耗10kW電力。

 電子車間廢氣處理-杭州

電子工業(yè)從產(chǎn)品來分的話,自上而下可以分為電子整機(jī)產(chǎn)品和電子基礎(chǔ)產(chǎn)品,還有電子材料等三個部分,其中包含有:光電器件、半導(dǎo)體器件、電子元件及電子終端產(chǎn)品等方面。電子廠廢氣的主要來源是對電子產(chǎn)品的表面涂層工藝環(huán)節(jié)所用溶劑型涂料和清洗工藝環(huán)節(jié)所用有機(jī)溶劑所致。電子工業(yè)廢氣VOCS常見的種類有:異丙醇、丁酮、甲苯、醋酸丁酯、甲醇、乙醇、丙酮、二甲苯、丙二醇單甲醚、苯乙烯、乙酸乙酯、正丁醇、甲基異丁基甲酮、二氯甲烷、環(huán)已酮、乙苯、正庚烷、甲氫呋喃、三氯乙烯。

對于這種排放量大、濃度低、成分復(fù)雜的廢氣,比較常用的廢氣處理方法有:焚燒、吸附、冷凝、生物膜法、低溫等離子、光催化氧化等,單獨(dú)使用的話有可能無法達(dá)成經(jīng)濟(jì)運(yùn)行,或不能滿足嚴(yán)苛的排放標(biāo)準(zhǔn),以下對于電子廠車間廢氣處理的幾種方法進(jìn)行簡單介紹一下:

1、焚燒法(RTO):能耗大、運(yùn)行成本高,適合處理高濃度、小風(fēng)量有機(jī)廢氣;

2、吸附法(活性炭):投資小、工藝簡單,易飽和,需要與脫附、冷凝、焚燒等方法聯(lián)用才能滿足排放要求;

3、冷凝法:與吸收、吸附等方法聯(lián)用,將有機(jī)廢氣吸附濃縮后冷凝、分離,回收其中有價值的有機(jī)物。此法適用濃度高、風(fēng)量小的有機(jī)廢氣處理場合。缺點(diǎn)是:投資、能耗、運(yùn)行費(fèi)用高,冷凝回收物提純處理后,仍有相當(dāng)部分液態(tài)廢棄物需要進(jìn)一步處理。該方案與生產(chǎn)設(shè)備、生產(chǎn)工藝存在匹配關(guān)系,偏離這種匹配關(guān)系將提高治理成本,影響治理效果;

5、光催化氧化法:采用C波段(僅次于切割不銹鋼的激光,強(qiáng)于氬弧焊光源的數(shù)十倍強(qiáng)度)在設(shè)備內(nèi),強(qiáng)裂解惡臭物質(zhì)分子鏈,改變物質(zhì)結(jié)構(gòu),將高分子污染物質(zhì),裂解、氧化成為低分子無害物質(zhì),如水和二氧化碳等;

6、高溫等離子凈化法:經(jīng)過壓縮、高壓聚能放電成為高溫等離子體。反應(yīng)器壓力增高,氣體體積急劇膨脹,在高溫、高電勢的雙重作用下,有機(jī)廢氣瞬間(萬分之5秒)成為高溫等離子體,其中長分子鏈裂解成單質(zhì)原子,有機(jī)物凈化率在90%左右。

常州藍(lán)陽環(huán)保有限公司主要產(chǎn)品有:低溫等離子廢氣凈化器、光氧催化廢氣凈化設(shè)備、活性炭吸附箱、催化燃燒設(shè)備、脈沖式濾筒除塵器、脈沖式布袋除塵器、噴淋凈化塔、焊接煙塵凈化器等,我公司生產(chǎn)的環(huán)保設(shè)備廣泛應(yīng)用于電路板廠、電子廠、半導(dǎo)體廠、光伏新能源等行業(yè),并得到了廣大企業(yè)的好評,已經(jīng)為上千家企業(yè)實(shí)施了廢氣治理項(xiàng)目。

1、焚燒處理(RTO):耗能大、運(yùn)作費(fèi)用高,適宜解決濃度較高的、小風(fēng)速有機(jī)氣體;

2、活性炭吸附法(活性碳):小投資、加工工藝簡易,易飽和,必須與解吸、冷凝、焚燒處理等方法合用方能達(dá)到排放量標(biāo)準(zhǔn);.

、冷凝法:與吸收、活性炭吸附等辦法合用,將有機(jī)氣體活性炭吸附萃取后冷凝、提取,回收當(dāng)中有使用價值的有機(jī)化合物。這種方法常用濃度值高、風(fēng)速小的有機(jī)廢氣治理場合。

弊端是:投資、耗能、運(yùn)作成本高,冷凝回收物提純解決后,仍有很大部分液體廢料必須進(jìn)一步處理。

4、沸石轉(zhuǎn)輪萃取+焚燒處理:沸石轉(zhuǎn)輪濃縮設(shè)備主要依賴進(jìn)口的,自主機(jī)器設(shè)備暫不成熟。該加工工藝同樣與生產(chǎn)設(shè)備、制作工藝存有匹配關(guān)系;

5、光催化氧化法:使用C波段(僅低于切割不銹鋼板的激光,強(qiáng)過氬弧焊光源的數(shù)十倍強(qiáng)度)在機(jī)器設(shè)備內(nèi),強(qiáng)裂解惡臭味成分分子鏈,轉(zhuǎn)變成分結(jié)構(gòu),將高分子材料污染源成分,裂解、氧化變成低分子無害成分,如水和二氧化碳等;

6、高溫等離子技術(shù)凈化處理法:通過壓縮、高壓聚能充放電變成高溫等離子技術(shù)。反應(yīng)器壓力增大,廢氣容積大幅度膨脹,在高溫、高電勢的雙向作用下,有機(jī)氣體瞬間(萬分之5秒)變成高溫等離子技術(shù),當(dāng)中長分子鏈裂解成單質(zhì)原子,有機(jī)化合物凈化率在90%上下。

 

 


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